三星宣布完成5纳米EUV工艺开发

发布者: 品胜电子 | 发布时间: 2019-04-18 17:33:00
三星宣布完成5纳米EUV工艺开发 已准备好向客户提供样品
更新时间:2019-4-17 15:56:27  
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       4月16日消息,据国外媒体报道,世界领先的半导体技术公司三星电子今天宣布,其5纳米FinFET工艺技术已经开发完成,现在已经准备好向客户提供样品。    通过在其基于极紫外(EUV)的工艺产品中添加另一个尖端节点,三星再次证明了其在先进制造市场的领先地位。    2018年10月,三星宣布7纳米制程工艺芯片准备就绪,并开始投入生产,这是三星第一个采用EUV光刻技术的产品。    该公司提供了业界第一个基于EUV的新产品的商业样品,并在今年年初开始大规模生产7纳米工艺。此外,三星还在与客户合作开发6纳米芯片。    与7纳米相比,三星的5纳米FinFET工艺技术提供了高达25%的逻辑面积效率提高。由于工艺改进,功耗降低了20%、性能提高了10%,这使得三星能够拥有更具创新性的标准单元架构。    5纳米的另一个关键优点是,可以将7纳米的所有相关知识产权重用到5纳米工艺上。因此,7纳米客户向5纳米过渡将得以大幅降低迁移成本,拥有预先经过验证的设计生态系统,从而缩短其5纳米产品的开发周期。    由于三星铸造公司与其“三星高级铸造生态系统”(SamsungAdvancedFoundryEcosystem,简称SAFE)合作伙伴的密切合作,自2018年第四季度以来,三星的5纳米产品就拥有了强大的设计基础设施,包括工艺设计工具、设计方法(DM)、电子设计自动化(EDA)工具和IP。 

   此外,三星铸造公司已经开始为客户提供5纳米多项目晶圆(MPW)服务。  


来源:TechWeb   


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